극자외선 리소그래피

1. 반도체 미세 공정의 진화 반도체 기술은 지난 수십 년 동안 비약적인 발전을 거듭해 왔다. 초기 트랜지스터가 진공관을 대체하며 등장한 이후, 무어의 법칙(Moore’s Law)에 따라… 더 보기 »최신 반도체 공정: 3nm 시대와 소재 혁신